SC-2清洗

1.清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生，在酸性溶液中不易发生，并具有较强的去除晶片表面金属的能力，但经SC-1洗后虽能去除Cu等金属，而晶片表面形成的自然氧化膜的附着（特别是Al）问题还未解决。

2.硅片表面经SC-2液洗后，表面Si大部分以 O  键为终端结构，形成一层自然氧化膜，呈亲水性。

3.由于晶片表面的SiO2和Si不能被腐蚀，因此不能达到去除粒子的效果。